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Eos200s 半自动4/5/6/8寸兼容硅基外延层膜厚测量设备
Eos200s是优睿谱外延膜厚度和元素浓度测量系统中的一款半自动设备,其特点是稳健创新的模块化光学系统设计,低运营成本和低维护水平。产品采用先进的GEM/SECS以太网通信设计,适用于标准清洁环境操作
Eos200s 描述
  •  模块化设计的光学单元,采用成熟的优睿谱傅立叶红外技术;

  • 风冷红外光源及防潮设计可降低维护成本(COO)并延长设备正常运行时间;

  • 完全符合SECS/GEM标准,SECS接口支持本地控制操作,主机通过HSMS/SECS-1协议进行的远程控制操作;

  • 具有友好的用户界面的客户服务器架构允许快速数据收集和二维或三维成像;

  •  已通过SEMI S2认证;

 


优势

  • 利用FTIR技术实现外延厚度的非接触测量;

  • 能够确定无图案或有图案的晶圆上的外延厚度,;

  • 测量可追溯至内部黄金标准;

  • 友好的用户界面,方便快捷的程序设置;

  • 为碳化硅外延膜厚测量定制设计的全域拟合算法;

  • 可以测量碳化硅外延片缓冲层厚度;

  • 可以测量碳化硅外延片多缓冲层和多外延层厚度;


特征

  • FROC自主知识产权,无需额外参考晶圆;

  • 光学系统采用ZnSe分束器和带有室温DTGS检测器,不需要氮气吹扫来驱除水分,有效降低维护费用;

  • 能够根据客户的特殊要求为系统软件提供相应的定制;



  • 公司地址
    上海市浦东新区盛夏路570号1幢402室
  • 联系方式
    市场与销售:sales@avantsemi.com.cn
    求职招聘: talent@avantsemi.com.cn
    服务邮箱: service@avantsemi.com.cn
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